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想要进入研究院的车间。
那复杂程度不亚于西天取经。
防护服得穿上。
然后风吹,将身上的尘埃都吹掉。
在经过紫外线照射等等环节。
从准备到进入,差不多要花上一个多小时。
没办法,光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。
光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束,将光束投射到画有电路图的掩膜。
再经过光学补偿,将电路图成比例缩小投射到硅晶片,最后通过化学方法显影,得到刻在硅晶片上的电路图。
如此,光刻机在工作中最重要的当然是光了。
光在哪里传播呢?自然是空气。
这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。
哪怕是一点灰尘,都能将生产出来的芯片直接报废。
现在91年,光刻机的精密度还没有那么高。
这台从阿斯麦过来的机器,还远远没有达到后世的7纳米,甚至5纳米。
所以,对车间的要求在当下看起来是非常高,但自己人还是能搞一搞。
等到后世就坏菜了。
光刻机的精密度提高,对环境的要求更加苛刻和变态。
在国际上通用标准来说,手术室的要求的环境是ISO5级。
这也是常人能接触到最干净的环境了。
但是,芯片生产因为特别精细。
极其微小的杂质都会影响产品的质量。
所以,在后世,生产芯片的车间竟然要求ISO1级或者ISO2级的最高水平!
也就是每立方米的空气中,超过0.1UM大小的杂质,不能超过100粒。
这是什么概念?
打个比方说:如果西湖里面装满纯净水,你往里面撒一把盐,它就不合格了!
很是恐怖的要求!
简直让人无法想象,这么高要求,你靠人工打扫肯定是不行的。
人类每分钟会掉900多块死皮。
450个以上的细菌。
滴一滴汗,就会报废一批芯片!
注意是一批!而不是一个!
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