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第268章 西厂奠基（第2页）
只是逻辑电路更复杂，就像在A4纸上写10万个‘徐’，和写10亿个‘徐’的难度，肯定不一样。
不仅要缩小字体，还要缩小字与字之间的距离。
这个距离，便是‘制程’，目前最先进的为128纳米。
刻画出‘掩膜版’，等于纳鞋底有了鞋印子。
接下来就是‘曝光’。
掩膜版上的线路，都是纳米级，若想让光线穿透的均匀，势必要用更细的‘光’，才能穿过刻画出来的线路，以便再照片上形成图案。
因此，现在用的‘光源’，叫极紫外线，也有的在用射线。
跟柯达研究反应堆一个道理。
当极紫外线穿过掩膜版的缝隙，照射到下方的照片，也就是‘晶圆’，晶圆表面的光刻胶，就会出现一个逻辑电路的影子。
然后光刻胶凝固，晶圆的第二层‘氧化层’，则会出现一个逻辑电路的轮廓。
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这个过程叫‘显影’。
有了轮廓，接下来就是‘刻蚀’。
犹如把刚刚喷吐在墙上的‘徐’字，抠出来，在墙上留下一个‘凹’下去的‘徐’，方便‘电子’在里面移动。
徐飞听得津津有味，眼看老学长不再讲，好奇道：“没了？”
“没了，就这简单。”
“那咱为啥造不出来？”
“你回忆一下这个过程，刻画掩膜版、制造射线级光源、精准到纳米级的曝光，还要确保掩膜版和晶圆上下对齐，避免错位的纳米级校对，以及在刻蚀过程中，包括曝光过程中，由于刻刀和镜头保持不动，机器操纵晶圆动来动去，一会加速，一会急停，一会旋转，对刻刀精度，对电机振动幅度，对后台控制系统稳定性的种种要求。”
“确实挺难。”
“是难吗？如果造和平武备的难度系数是1，造它的难度就是1万。”
“那制造大型粒子对撞机的难度呢？”
“100万。”
“幸亏我没打算造那玩意。”
“？？？”
不止老学长们，就连昏昏欲睡的顶头上司，也打个激灵，坐直了腰板。
徐飞眼看说漏嘴，若无其事的挽救道：“让徳国蔡司去造光刻机，咱搞代工。”
“小徐啊，咱也要努力，随着科技发展，东西方早晚会碰撞的。”
“明白。”
小课堂结束后，科学院赠送给TEP大学-西校区，一台300纳米制程，用于教学的光刻机。
当天晚上运过来，早上就被电子实验室拆成了散件。
里面包括静音级线性电机、射线发生器、光学镜片……
配套工具包括光学掩膜版、六寸晶圆……
晶圆则由光刻胶、氧化层、硅片构成。
徐飞跟着科研人员忙活一天，数数录入的零部件，大约1.3万个。
其中，光学类，自家造不了，需要交给徳国蔡司。
电路设计类，由社科院搞定。
程序控制类，由电子实验室搞定。
生产加工类，由铁皮公司搞定。
至于剩下的晶圆……
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